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  • 檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "氧".ckeyword (精準) and ckeyword.raw="射頻磁控濺鍍"


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    以射頻磁控濺鍍製備氧化鈰薄膜於油水分離製程之研究
    • 機械工程系 /111/ 碩士
    • 研究生: 劉容瑄 指導教授: 郭俞麟
    • 本研究使用射頻磁控濺鍍設備(RF Magnetron Sputtering),並分為純氬氣與通入6.2 sccm與12.5 sccm氧氣氣氛,搭配CeO2靶材以功率100 W沉積氧化鈰薄膜於矽晶片、…
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    • 全文公開日期 2028/08/19 (校內網路)
    • 全文公開日期 2028/08/19 (校外網路)
    • 全文公開日期 2028/08/19 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

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    階段濺鍍之氧化矽薄膜研究
    • 機械工程系 /105/ 碩士
    • 研究生: 彭裕傑 指導教授: 趙振綱
    • 本文將利用射頻磁控濺鍍機(RF magnetron sputter)濺鍍氧化矽薄膜於可撓性基材PET上,利用單階段濺鍍技術與雙階段濺鍍技術,並改變濺鍍功率,探討其對氧化矽薄膜之表面粗糙度、表…
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