檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "氧".ckeyword (精準) and ckeyword.raw="射頻磁控濺鍍"
個人化服務 :
排序:
每頁筆數:
已勾選0筆資料
1
本研究使用射頻磁控濺鍍設備(RF Magnetron Sputtering),並分為純氬氣與通入6.2 sccm與12.5 sccm氧氣氣氛,搭配CeO2靶材以功率100 W沉積氧化鈰薄膜於矽晶片、…
2
本文將利用射頻磁控濺鍍機(RF magnetron sputter)濺鍍氧化矽薄膜於可撓性基材PET上,利用單階段濺鍍技術與雙階段濺鍍技術,並改變濺鍍功率,探討其對氧化矽薄膜之表面粗糙度、表…